производство сверхчистой воды

сверхчистая смола для производства полупроводников и ядерной энергии




Теоретически, сверхчистая вода означает воду с удельным сопротивлением более 18 м Омега * c m (25 °C) или почти 18,3 м Омега * c m (25 °C).Помимо молекул воды, в ней практически нет примесей и таких органических веществ, как бактерии, вирусы и хлордиоксины.

сверхчистая вода используется главным образом для разработки таких сверхчистых водных материалов, как полупроводниковый сырье, нанотехнокерамические материалы, вода для ядерной промышленности и т.Д.
Эта вода трудно достать в общей технологии.Теоретически, он может быть обработан через двухступенчатый обратный осмос, а затем полирован через ряд смешанных смол.



В настоящее время сверхчистая вода используется главным образом в полупроводниковой и ядерной промышленности.




в электронной промышленности от очистки различных электронных элементов до подготовки ряда технологических вариантов требуется высококачественная чистая вода, особенно производство полупроводниковых приборов и крупномасштабных интегральных схем.почти во всех процессах очистки воды используется сверхчистая вода.сверхчистая вода, приготовленная из электронной смолы, резисторы которой в основном требуют 15 м Омега * c m (25 °C) или выше.

очистка воды на АЭС полностью отличается от очистки воды на обычных электростанциях.в цепи АЭС и в окружающей среде, где необходимо ликвидировать все виды деятельности, абсолютно необходимо, чтобы используемые смолы не выделяли никаких ионов или веществ, которые могли бы привести к осаждению и коррозии.чтобы достичь высокого уровня регенерации, должна быть высокая чистота.сверхчистая вода для приготовления ядерной смолы, в основном требуется 18 м Омега * c m (25 °C) или более высокое сопротивление.