Производство сверхчистой воды

Теоретически сверхчистой водой называют воду, имеющую удельное сопротивление более 18 МОм*см (25 °C) или близкое к 18,3 МОм*см (25 °C). Помимо молекул воды, в этой воде практически нет примесей, а также отсутствуют органические вещества, такие как бактерии, вирусы и хлорсодержащие диоксины.

Сверхчистая вода в основном используется для разработки сверхчистых материалов, таких как исходные полупроводниковые материалы, нанокерамические материалы и вода для ядерной энергетики.

Такую воду трудно получить в общем процессе. Теоретически ее можно очистить двухступенчатым обратным осмосом, а затем серией смешанных ионообменных смол.

В настоящее время сверхчистая вода используется в основном в полупроводниковой промышленности и атомной энергетике.

В электронной промышленности, от очистки различных электронных компонентов до подготовки ряда технологических растворов, требуется высококачественная чистая вода, особенно для производства полупроводниковых приборов и больших интегральных схем. Сверхчистая вода используется практически в каждом процессе очистки воды. Сверхчистая вода, полученная с помощью смолы электронного качества, в основном требует сопротивления 15 МОм*см (25 °C) или более.

Обработка воды на атомных электростанциях полностью отличается от той, которая встречается на обычных электростанциях. В контурах атомных электростанций и в средах, где все виды деятельности должны быть устранены, абсолютно необходимо, чтобы используемая смола не выделяла никаких ионов или веществ, которые могут вызвать осаждение и коррозию. Поэтому ядерная смола должна обладать чрезвычайно высокой стабильностью, должна достигать очень высокого уровня регенерации и должна иметь очень высокую чистоту.

Для сверхчистой воды, приготовленной с использованием ядерной смолы, в основном требуется сопротивление 18 МОм*см (25 °C) или более.